资料咨询CHCET 宣告，鉴于全职业经济放缓，并陈述资料供给链库存水平较高，2023 年半导体资料商场将至少萎缩3% 。本年的下降将导致半导体资料的收入总额降至 696 亿美元，低于 2022 年陈述的 71.7 美元。但是，抢先的逻辑和轿车/功率器材出产将约束 2023 年资料收入的整体下降。
TECHCET 猜测 2024 年商场将微弱复苏，资料总收入将添加 8%，到达近 750 亿美元。估计未来 5 年复合年添加率为 4%，到 2027 年商场规模将到达 880 亿美元。
2023年的经济放缓纠正了整个供给链的资料供给约束。不过，跟着职业复苏和全球新晶圆厂的添加，对资料的需求将会增强。300毫米晶圆、外延晶圆、一些特种气体以及或许的铜合金靶材的供给估计将康复严重。供给缺少的程度将取决于资料供给商扩张的推延。鉴于当时低迷的商场环境，一些扩建项目已被推延。
EUV 相关加工（复合年添加率 20%）和 3D NAND 制作（复合年添加率>
5%）的先进光刻胶和辅佐化学品将推进 2024 年及今后的微弱商场需求。先进逻辑和下一代存储器中的新式电容器和互连结构的先进前体产值和收入将飙升。TECHCET 还估计，到 2027 年猜测期内，特种气体商场的复合年添加率将超越 7%。
正如TECHCET 的新光刻资料要害资料陈述中所解说的那样，展望未来，商场估计将坚持微弱，2022-2027 年的 5 年复合年添加率为 4.1% 。“添加最快的光刻胶产品是 EUV 和 KrF，因为这两种产品都与先进逻辑和存储器等新技术的引进一同运用，”TECHCET 首席战略师 Karey Holland 博士说道。
用于“传统”节点（如 I、G 和 KrF/248nm）的光刻胶资料也将支撑商场的继续添加。跟着三星、台积电和英特尔等公司将一些工艺从 ArF 和 ArFi（193nm 和 193nm 沉溺式 193i）转向 EUV 和 193i 的组合，EUV 产值正在继续不断的添加。美光和 SK 海力士估计也会仿效。
负性 EUV 运用的添加正在推进新的趋势，例如负性溶剂开发以及在光刻胶运用之前添加晶圆的预潮湿。EUV负性光刻胶的添加估计也将削减水性显影剂和封边珠的运用。
因为晶圆厂扩建和其他世界供给商的出口约束，为台积电和韩国三星供给支撑的小型光刻胶公司正在当地商场站稳脚跟。尽管日本政府（2023 年 3 月之前）约束向韩国和中国出口某些光刻胶供给，但总部在日本的光刻胶公司现在占有光刻胶商场 75-90% 的比例。尽管其间一些约束现已撤销，但地舆政治学交易中止推进了中国大陆、台湾地区和韩国当地资料供给商的本土化。
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